钛靶材

钛旋转靶采用真空熔炼工艺制得，尺寸及纯度根据客户要求定制。
钛平面靶采用真空熔炼工艺制得，尺寸及纯度根据客户要求定制。

纯度：99.7-99.9999%
应用领域：半导体分离器件、平面显示器、储存器电极薄膜、工件表面涂层、玻璃镀膜工业、薄膜太阳
能工业、节能玻璃工业、光学镀膜工业、工具及装饰镀膜工业等。

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