铜靶材

铜旋转靶通过对高纯铜挤压、拉伸、校直、热处理，机加工等多种工序制得，尺寸及纯度根据客户要求定制。
铜平面靶通过对高纯铜锭机加工等工序制得，尺寸及纯度根据客户要求定制。

纯度：99.99-99.9999%，其中氧含量可以<10ppm，细小均匀的微观组织。
应用领域：显示屏及触摸屏配线及其保护膜，太阳能光吸收层、半导体配线，装饰镀膜等行业。

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