氧化铝陶瓷靶材

氧化铝靶材采用真空热压烧结与气氛烧结工艺，得到氧化铝靶坯，然后对氧化铝靶坯进行机加工而制得。旋转靶通常绑定在背管上使用，平面靶建议绑定在铜背板上使用，尺寸可根据客户要求定制。


纯度：99.99%。
应用领域：机械设备、光学领域、微电子领域、半导体。


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