铝硅合金靶材

硅铝旋转靶采用喷涂工艺或热等静压工艺制得，可生产最大长度4000mm，厚度及比例根据客户要求定制。
硅铝平面靶采用真空磁悬浮熔炼工艺 ，浇铸成锭，然后通过热机械处理和精密机械加工制得，尺寸及比例根据客户要求定制。


纯度：99.9-99.99%；常用比例：90-10Al wt%、70-30Al wt%等。
应用领域：大面积玻璃镀膜行业、Low-E低辐射玻璃、防刮伤和防眩光玻璃、平板显示器玻璃、光学、光通讯和光存储等行业。


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